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Arbeitsgruppe Westphal des Lehrstuhls E1

 

 

Carsten Westphal

 

Wir, die Arbeitsgruppe von Prof. Dr. Westphal untersuchen strukturelle und elektronische Eigenschaften von dünnen Schichtsystemen auf atomarer Skala von Metall- und Halbleiteroberflächen sowie Grenzflächen mit Hilfe von Elektronenstreuexperimenten. Durch verschiedene Präparationsmethoden stellen wir sowohl niederdimensionale Strukturen, wie auch Schichtsysteme her. Ihre elektronischen und chemischen Eigenschaften und ihre Struktur sind sensitiv auf kleinste Veränderungen beispielsweise der Schichtdicke, welche wir bis zu einem Bruchteil einer atomaren Lage genau kontrollieren können. 

Zur Untersuchung verwenden wir verschiedene Methoden. An dem universitätseigenen 1,5 GeV-Elektronenspeicherring DELTA nutzen wir eine eigene Strahllinie, und die anschließende UHV-Experimentierkammer für XPS- und XPD-Messungen mit weicher Röntgenstrahlung. Neben der hochintensiven monochromatisierten Undulatorstrahlung stehen ebenfalls eine He-Lampe und eine Röntgenröhre zur Verfügung. Desweiteren nutzen wir STM-Messungen bei Raum- und Tieftemperatur, sowie LEED-Untersuchungen zur Strukturaufklärung. Darüber hinaus verwenden wir ein UV-PEEM zur Analyse der Topographie und der elektronischen Struktur, was es uns ermöglicht die chemische Zusammensetzung der Oberfläche aufgrund ihres Absorption Mechanismuses zu  bestimmen.


 

 

We, the group of Prof. Dr. Westphal investigate structural and electronic properties of thin layer systems on atomic scale of various metal and semiconductor surfaces and interfaces. By using various preparation methods, we can assemble low-dimensional structures as well as multi-layer systems. Their electronic and chemical properties, along with their structure are sensitive to small variations to the layer thickness. The layer thickness is accurately controlled to a fraction of an atomic layer. 

For the investigation of surface systems we use various methods for our experimental analysis. At the universitys operated synchrotron storage ring DELTA, we use light of our beamline for measurements in the soft x-ray regime to conduct XPS and XPD measurements. Besides the intense synchrotron light, we further use a gas discharge lamp and a x-ray tube. Additionally, real-space structure research is carried out by a room- and a variable temperature STM set-up, seconded by LEED-measurements for k-space information. Further, an UV-PEEM allows to analyse topography and electronic structure. Which makes it possible to identify the chemical structure of a surface based on the absorption mechanism.